HOME > IR情報 >

ニュースリリース

第20回CSデザイン賞で中川ケミカル賞を受賞しました2018年 7月30日

株式会社 中川ケミカル主催のCSデザイン賞において、光村グラフィック・ギャラリー (MGG)で開催した「7年目の青葉益輝展」のウィンドウ装飾が「中川ケミカル賞」を受賞しました。このデザインアワードはカッティングシート®を効果的に使用し、より豊かな空間・環境の創造をめざすもので、36年目を数える今回の第20回では161点の応募がありました。
当社の応募作品は、MGGで2017年に開催した「7年目の青葉益輝展」のウィンドウ装飾で、本展覧会では没後7年目を迎えた今なお世界的に評価を高めるグラフィックデザイナー・青葉益輝氏の全貌を展示し、「いま、デザインに、ポスターに、何ができるのか」を改めて問いかけました。会場のウィンドウには青葉氏が晩年葉山の別荘でよく描いていた、様々なモチーフが集積して一つのシルエットをかたどる独特なアートシリーズのイラストを大きく引き伸ばし、インパクトあるビジュアルを狙いました。


ディレクター/大迫 修三
イラスト/青葉 益輝
施工/株式会社東京スタデオ

※詳細は こちら(CSデザイン賞サイトへ)

ニュースリリース一覧に戻る

ページTOP
お問い合わせ